microSilicon X非常適合在
光子射野到大的射野尺寸的測量。 由于其空間分
辨率，它可以非常精確地測量射束曲線，即使是在半影區
域。
改進的能量響應使用戶能夠執行準確的，獨立與射野尺寸
的百分深度劑量測量。 此外，新設計的水等效窗厚度較
小，這對輸出因子的測量有積極的影響。

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